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最新產(chǎn)品
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日立磁控濺射器MC1000
面議0簡(jiǎn)介：日立高新磁控濺射器（HitachiIonSputter)MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對(duì)樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器...
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日立離子研磨裝置IM4000
面議0簡(jiǎn)介：日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMillingSystemIM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器！日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMilli...
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離子研磨系統(tǒng)ArBlade5000
面議0簡(jiǎn)介：日立ArBlade5000離子研磨系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量，并制備廣域橫截面樣品。離子研磨系統(tǒng)使用通過(guò)在表面上照射氬離子束引起的濺射效應(yīng)來(lái)拋光樣品的表面。樣品預(yù)處理系統(tǒng)可以用于電子和材料等各個(gè)領(lǐng)域的研發(fā)...
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日立5100N通用多功能原子力顯微鏡
面議0簡(jiǎn)介：AFM5100N除了激光檢測(cè)方式之外，全新的「自檢測(cè)懸臂」，在保證高分辨表面形貌觀察的同時(shí)，大大簡(jiǎn)化了AFM懸臂操作?！ぬ攸c(diǎn)1.簡(jiǎn)便的懸臂安裝通常的懸臂是非常渺小而且很難操作，內(nèi)部裝有傳感器的「自...
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日立5300E環(huán)境多功能原子力顯微鏡
面議0簡(jiǎn)介：AFM5300E是一款環(huán)境型原子力顯微鏡，它的環(huán)境控制單元可以使樣品在大氣中、真空中、溶液中等環(huán)境中進(jìn)行測(cè)量。AFM5300E還具有高低溫控制功能，可以檢測(cè)溫度對(duì)樣品表面形貌和物理特性的影響?！ぬ?..
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日立原子力顯微鏡工作站
面議0簡(jiǎn)介：標(biāo)準(zhǔn)配備改良過(guò)的測(cè)量參數(shù)自動(dòng)調(diào)整功能，以及簡(jiǎn)單明了的圖形用戶(hù)界面。因此，即使是剛剛接觸SPM的人，或者測(cè)量某種全新的樣品時(shí)，也能取得具有較高再現(xiàn)性的數(shù)據(jù)?！ぬ攸c(diǎn)1.RealTune?II的測(cè)量參數(shù)...
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球差場(chǎng)發(fā)射透射電子顯微鏡 HF5000
面議0簡(jiǎn)介：標(biāo)配日立生產(chǎn)的照射系統(tǒng)球差校正器（附自動(dòng)校正功能）搭載具有高輝度、高穩(wěn)定性的冷場(chǎng)FE電子槍鏡體和電源等的高穩(wěn)定性使機(jī)體的性能大幅度提升觀察像差校正SEM/STEM圖像的同時(shí)觀察原子分辨率SE圖像采...
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日立中型掃描電鏡SU3800 / SU3900
面議0簡(jiǎn)介：1)支持超大/超重樣品測(cè)試可搭載的樣品尺寸：“SU3800”標(biāo)配可搭載直徑200mm樣品的樣品倉(cāng)，可應(yīng)對(duì)高度為80mm、重量為2kg的樣品。“SU3900”作為日立的大型掃描電鏡，標(biāo)配可搭載直徑3...
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日立5500M全自動(dòng)型原子力顯微鏡
面議0簡(jiǎn)介：AFM5500M是操作性和測(cè)量精度大幅提高，配備4英寸自動(dòng)馬達(dá)臺(tái)的全自動(dòng)型原子力顯微鏡。設(shè)備在懸臂更換，激光對(duì)中，測(cè)試參數(shù)設(shè)置等環(huán)節(jié)上提供全自動(dòng)操作平臺(tái)。新開(kāi)發(fā)的高精度掃描器和低噪音3軸感應(yīng)器使測(cè)...
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臺(tái)式顯微鏡 TM4000II/TM4000PlusII
面議0簡(jiǎn)介：臺(tái)式掃描電子顯微鏡(SEM)全新升級(jí)。我們以“更高畫(huà)質(zhì)、更易于使用、更易于觀察”為理念，開(kāi)發(fā)出TM4000系列。在此基礎(chǔ)上，我們又推出功能更為多樣的TM4000Ⅱ系列。為您提供全新的觀察和分析應(yīng)用...
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