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舞臺燈光雖然呈現(xiàn)是五顏六色的, 但光源一般都是白色. 通過在光源前加上特定的光學(xué)濾光片, 對光進行“加工”, 反射和透過特定的波段, 來達到不同的色彩變化. 加上顏色濾光片, 讓不同顏色的鏡片不停切換, 產(chǎn)生不同顏色. 而在光學(xué)元件或獨立基板上, 鍍上或涂布一層或多層介電質(zhì)膜或金屬膜或這兩類膜的組合, 即光學(xué)薄膜, 可以改變光波之傳遞特性, 包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改變.
上海伯東某客戶為舞臺燈光設(shè)備生產(chǎn)商, 經(jīng)過伯東推薦選用國產(chǎn)鍍膜機加裝美國進口 KRi 射頻離子源進行輔助鍍膜, 保證工藝效果, 提高生產(chǎn)效率.
KRi 射頻離子源應(yīng)用于舞臺燈光濾光片鍍膜
客戶之前使用其他國產(chǎn)機臺鍍制, 蒙霧且溫漂大, 達不到客戶要求.
上海伯東美國進口KRI離子源輔助國產(chǎn)鍍膜設(shè)備鍍制舞臺燈光濾光片, 透亮且溫漂小, 滿足客戶降低生產(chǎn)成本、提高產(chǎn)品質(zhì)量的需求, 為國內(nèi)鍍膜廠家進行工藝升級提供新方向！
上海伯東美國 KRi 射頻離子源 RFICP 系列, 無需燈絲提供高能量, 低濃度的離子束, 通過柵極控制離子束的能量和方向, 單次工藝時間更長! 射頻離子源適合多層膜的制備, 離子濺鍍鍍膜和離子蝕刻, 改善靶材的致密性, 光透射, 均勻性, 附著力等. 上海伯東是美國 KRi 離子源中國總代理.
美國 KRi RFICP 射頻離子源技術(shù)參數(shù)：
型號 | RFICP 40 | RFICP 100 | RFICP 140 | RFICP 220 | RFICP 380 |
Discharge 陽極 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 | RF 射頻 |
離子束流 | >100 mA | >350 mA | >600 mA | >800 mA | >1500 mA |
離子動能 | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V | 100-1200 V |
柵極直徑 | 4 cm Φ | 10 cm Φ | 14 cm Φ | 20 cm Φ | 30 cm Φ |
離子束 | 聚焦, 平行, 散射 | ||||
流量 | 3-10 sccm | 5-30 sccm | 5-30 sccm | 10-40 sccm | 15-50 sccm |
通氣 | Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 | ||||
典型壓力 | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr | < 0.5m Torr |
長度 | 12.7 cm | 23.5 cm | 24.6 cm | 30 cm | 39 cm |
直徑 | 13.5 cm | 19.1 cm | 24.6 cm | 41 cm | 59 cm |
中和器 | LFN 2000 | ||||
上海伯東同時提供真空系統(tǒng)所需的渦輪分子泵, 真空規(guī), 高真空插板閥等產(chǎn)品, 協(xié)助客戶生產(chǎn)研發(fā)高質(zhì)量的真空系統(tǒng).
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域.
上海伯東是美國Gel-pak 芯片包裝盒, 日本 NS 離子蝕刻機, 德國 Pfeiffer 真空設(shè)備, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 比利時進口 Europlasma 等離子表面處理機 和美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備等進口品牌的代理商 .我們真誠期待與您的合作!
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
上海伯東: 羅小姐
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第四屆全國光譜大會
展會城市：株洲市展會時間：2025-05-08