一、設(shè)備用途：

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號(hào)：KDH-800

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：飛躍VRD-24直聯(lián)泵、K-150擴(kuò)撒泵、高真空氣動(dòng)擋板閥和各種管路真空系統(tǒng)***安裝，方便拆卸并便于和其他真空設(shè)備對(duì)接，一套多用。

4、冷態(tài)極限真空度≤6.7x10E-3Pa

5、熔煉電流：額定電流≤800A

6、熔煉坩堝有9個(gè)工位其中有一工位帶電磁攪拌，五個(gè)D50*30樣品工位，四個(gè)D30*15工位容重（樣品重量）50-120(克）/熔煉池

7、工作氣體：Ar氣；

8、攪拌方式：手動(dòng)懸臂翻料，有機(jī)械手翻轉(zhuǎn)組件

9、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

10、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡(jiǎn)便有效；電極桿電動(dòng)升降，操作便攜

11、爐體側(cè)部開門，裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便，門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。