ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀是工作原理是通過專用高分辨率 CCD 線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進(jìn)行分析。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法，將目標(biāo)顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機(jī)輸出。

一、結(jié)構(gòu)原理

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀工作原理是通過專用高分辨率CCD線性傳感器和顯微光學(xué)掃描平臺，將顆粒圖像信息采集下來并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)中，用專門的顆粒圖像分析軟件對顆粒圖像進(jìn)行分析。結(jié)合智能的背景分離的顆粒邊界搜索算法，將目標(biāo)顆粒與背景分離，分析出各種測量參數(shù)，并通過顯示器和打印機(jī)輸出。

該儀器具有超大測量范圍及高分辨率，同時(shí)具有直觀、可視、準(zhǔn)確、操作簡單、測量參數(shù)全面等特點(diǎn)。能夠同時(shí)測量顆粒粒度、形狀及表面顏色的新型顆粒分析儀器。

二、產(chǎn)品介紹

ZMP-960晶體出現(xiàn)率分析儀可以直接對透明貼劑中析出的晶體進(jìn)行掃描，按照規(guī)定掃描范圍進(jìn)行掃描一定的面積，將其中的晶體識別出來并做數(shù)量統(tǒng)計(jì)。軟件可以內(nèi)置公式得出晶體出現(xiàn)率。

三、性能指標(biāo)

1.測量范圍：1μm ～ 100mm

2.圖像分辨率：900萬像素

3.光學(xué)平臺：100mm * 120mm

4 背景光源：反射光