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日立 熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 SU5000

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產(chǎn)品介紹 創(chuàng)新的“EM Wizard”界面更加直觀(guān),僅需要“點(diǎn)擊”即可得到的圖像。 超前的電腦輔助技術(shù)將電鏡的操作與控制提升到一個(gè)新水平。

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熱場(chǎng)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡 SU5000_看圖王.web.jpg


產(chǎn)品介紹:


創(chuàng)新的“EM Wizard”界面更加直觀(guān),僅需要“點(diǎn)擊”即可得到的圖像。
超前的電腦輔助技術(shù)將電鏡的操作與控制提升到一個(gè)新水平。


產(chǎn)品特點(diǎn):


高性能電子光學(xué)系統(tǒng)



  • 二次電子分辨率: 頂位二次電子探測(cè)器(2.0 nm at 1kV)*

  • 高靈敏度: 高效PD-BSD, 的低加速電壓性能,低至100 V成像

  • 大束流(>200 nA): 便于高效微區(qū)分析

性能優(yōu)異:


  • 壓力可變: 具有優(yōu)異的低真空(10 -300 Pa)成像性能,配備高靈敏度低真空探測(cè)器(UVD)*

  • 開(kāi)倉(cāng)室快速簡(jiǎn)單換樣(樣品尺寸: Φ 200 mm x 80 mmH)

  • 微區(qū)分析: EDS, WDS, EBSD等等

產(chǎn)品規(guī)格:


項(xiàng)目內(nèi)容
分辨率1.2nm @ 30 kV
3.0nm @ 1 kV
2.0nm @ 1 kV 減速模式*1
3.0nm @ 15 kV 低真空模式*2
放大倍率10 -600,000×(底片倍率),18-1,000,000×(800×600 像素)
30-1,500,000×(1,280×960像素)
電子光學(xué)系統(tǒng)電子槍ZrO/W 肖特基式電子槍
加速電壓0.5-30kV(0.1kV步進(jìn))
著陸電壓減速模式:0.1-2.0kV*1
束流>200 nA
探測(cè)器低位二次電子探測(cè)器
低真空模式*2真空范圍:10-300Pa
馬達(dá)臺(tái)
馬達(dá)臺(tái)控制5-軸自動(dòng)(優(yōu)中心)
可動(dòng)范圍
X:0~100mm
Y:0 ~ 50mm
Z:3 ~ 65mm
T:-20 ~ 90°
R:360°
樣品尺寸直徑:200mm
高度:80mm
選配探測(cè)器
  • 高分辨率頂位二次電子探測(cè)器*1

  • 高靈敏度低真空探測(cè)器 (UVD)

  • 5分割半導(dǎo)體探測(cè)器 (PD-BSD)*3

  • 能譜儀 (EDS)

  • 波譜儀 (WDS)

  • 背散射電子衍射探測(cè)器 (EBSD)


*1:減速功能(包含高分辨率頂位二次電子探測(cè)器)
*2:低真空功能(包含5分割半導(dǎo)體探測(cè)器)

*3:空壓機(jī)(本地采購(gòu))


應(yīng)用實(shí)例:



樣品: 氧化鋅粉末
著陸電壓: 1 kV ; 倍率: 120,000x
低電壓下頂位二次電子探測(cè)器成像



樣品: PTFE
加速電壓: 3 kV ; 倍率: 13,000x
UVD探測(cè)器可在低加速電壓(3 kV)和低真空
(40 Pa) 下獲得高質(zhì)量圖像



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