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FA(失效分析)專(zhuan)用激光探針臺系統(tǒng)

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失效分析實驗室專(zhuan)用(芯片去層/線路或Pad切割與熔接電性能測試驗證)

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失效分析實驗室專用(芯片去層/線路或Pad切割與熔接電性能測試驗證)

激光鐳射波長1064/532/355nm 可選擇性去除特定材料、而不損傷下層或基底

材料/器件(尤其是射頻特征芯片)的 IV/PIV/CV 電性測試和失效分析。

最小切割線寬:355nm 1um; 532nm 1.2um ; 1064nm 1.5um

探針平臺可以上下微調,行程25mm,升降精度1um

卡盤,采用中心吸附孔和多圈吸附環(huán)固定樣品

可調節(jié)顯微鏡快速傾仰,便于更換物鏡,帶自動鎖定功能

高功率白色照明源(亮度可以無級調節(jié))



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