快速退火爐(RTP/RTA)是半導(dǎo)體材料和器件常用的一款工藝設(shè)備。大尺寸快速退火爐(12英寸)可以在真空、惰性氣氛、不同的工藝氣體環(huán)境下使用。
大尺寸快速退火爐(12英寸)是一款很有特點(diǎn)的快速退火爐，有非常大的退火空間，適合大尺寸樣品的熱處理。
儀器特點(diǎn)：
- 快速熱處理、快速熱退火 RTP / RTA；
- 可在真空、甚至于高真空環(huán)境使用；
- 加熱區(qū)域尺寸：300毫米 X 300毫米；
- 廣泛用于太陽(yáng)能電池片快速退火工藝，如156mm X 156mm電池片，300mm X 300mm電池片等；
參考用戶：
中科院上海技術(shù)物理所，*41所。
上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司是專業(yè)的半導(dǎo)體及微電子領(lǐng)域儀器設(shè)備供應(yīng)商，上海載德所代理的儀器設(shè)備廣泛用于高校、研究所、半導(dǎo)體*。
上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司目前代理的主要產(chǎn)品包括：
- 霍爾效應(yīng)測(cè)試儀(Hall Effect Measurement System)；
- 快速退火爐(RTP)；
- 回流焊爐，真空燒結(jié)爐(Reflow Solder System)；
- 探針臺(tái)(Probe Station)，低溫探針臺(tái)(Cryogenic Probe Station)；
- 貼片機(jī)(Die Bonder)，劃片機(jī)(Scriber)，球焊機(jī)/鍥焊機(jī)(Wire Bonder)；
- 原子層沉積系統(tǒng)(ALD)，等離子增強(qiáng)原子層沉積設(shè)備(PEALD)；
- 磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter)，電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)(E-beam Evaporator)，熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)(Thermal Evaporator)，脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD) ;
- 低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(LPCVD)，等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)，快速熱化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)(RTCVD)；
- 反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(RIE)，ICP刻蝕機(jī)，等離子體刻蝕機(jī)；
- 致冷機(jī)/低溫恒溫器(Cryostat/Cryocooler)；
- 加熱臺(tái)、熱板、烤膠臺(tái) (Hot Chuck / Hot Plate)；
- 掃描開(kāi)爾文探針系統(tǒng)(Kelvin Probe)，光反射膜厚儀(Reflectometer)；
- 高溫超導(dǎo)磁體(HTS Magnet)，快速場(chǎng)循環(huán)核磁共振弛豫測(cè)試儀(FFC Reflexometer)。
