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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱 北京羲和陽光科技發(fā)展有限公司
品牌
型號
所在地 北京市
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2015/12/24 15:00:00
訪問次數(shù) 549

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對人的依賴。

產(chǎn)品簡介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

XH-LAB-RC是一款很好的化學(xué)制絨工藝測量，分析和工藝優(yōu)化的工具，同時(shí)也可以測量鍍膜后硅片的膜厚和顏色。可進(jìn)行雙面x，y全自動(dòng)測量；保證測量的精準(zhǔn)度。

詳細(xì)信息在線詢價(jià)

裸片及鍍膜片全光譜反色率、色度、膜厚測量儀

型號: XH-LAB-RC
硅晶電池片表面制絨效果對電池片效率提高扮演著非常重要的角色。電池片的制絨減少了因?yàn)榉瓷涠鴣G失的光，并且對電池片的鈍化效果也有很大的影響。另外就制絨工藝本身來講，硅片材料和硅片切割效果對其也有影響。因此，很有必要獲得制絨效果的詳細(xì)信息，從制絨后整理體反射率光譜的精確測量可以獲得這些重要的信息。

XH-LAB-RC是一款很好的化學(xué)制絨工藝測量，分析和工藝優(yōu)化的工具，同時(shí)也可以測量鍍膜后硅片的膜厚和顏色?？蛇M(jìn)行雙面x，y全自動(dòng)測量；保證測量的精準(zhǔn)度。

系統(tǒng)使用簡單，無需操作人員具有專業(yè)的技能。因?yàn)橄到y(tǒng)有手動(dòng)的單軸移動(dòng)平臺，所以能快速進(jìn)行線性掃描。用戶可以在移動(dòng)的硅片上進(jìn)行連續(xù)性測量，也可以測量硅片上的固定點(diǎn)。系統(tǒng)可自動(dòng)生成測試報(bào)告并存儲數(shù)據(jù)。

測量原理

系統(tǒng)利用一個(gè)寬頻譜的鹵素?zé)糇鳛楣庠?，反射光被特別設(shè)計(jì)的積分球收集并探測，積分球通過光纖與一個(gè)高精度光譜儀連接。不管樣品表面是絨面還是拋光面，所有的反射光和散射光都會被收集測量，整體光譜反射率的值及變動(dòng)情況可以用來管控硅片的制絨工藝，同時(shí)可以測量出鍍膜硅片的總的反射損失。通過標(biāo)準(zhǔn)邏輯運(yùn)算，可計(jì)算出在不同顏色空間的顏色值，如Lab，xyY顏色空間等。

薄膜的上表面和下表面反色光由于相位不同而發(fā)生干涉，干涉光譜的頻率與膜厚是成正比的。這種現(xiàn)象用來計(jì)算硅片的膜厚。的計(jì)算方法是通過擬合測量光譜和薄膜理論光譜，使其吻合，計(jì)算出薄膜的實(shí)際厚度。

系統(tǒng)特點(diǎn)

■ 全波段整體反射率測量
■ 任意波段zui小反射率及對應(yīng)波長測量
■ 自定義單一波長反射率測量
■ 任意波段平均反射率測量
■ 鍍膜膜層厚度測量
■ 色度計(jì)算
■ 集成參考校正片
■ 用戶自定門限設(shè)置
■ Goog/Bad指示
■ 手動(dòng)單軸測試臺
■ 手動(dòng)全硅片Mapping
■ 測量速度快, <0.8s /點(diǎn)
■ 可以提供第三方認(rèn)證標(biāo)片（選項(xiàng)）
■ 裸片和鍍膜片的測量:
     -離線
     -非接觸式
     -靜態(tài)單點(diǎn)測量
■ 測量參數(shù):
     -反射率: r（全光譜）
     -色度: c（Lab, xyY , ...）
     -膜厚 r（鍍膜片）
■ 應(yīng)用范圍:
     -多晶（拋光、粗糙、絨化）
     -單晶（拋光、粗糙、絨化）
     -125mm×125mm / 156mm×156mm
■ 應(yīng)用在所有向光制絨工藝
     -化學(xué)蝕刻（酸/堿）
     -RIE（離子反應(yīng)蝕刻）
■ 操作簡單
     -只需點(diǎn)擊測量按鈕，即出測量結(jié)果
     -手動(dòng)單軸移動(dòng)測試臺，可全硅片Mapping
     -線性掃描簡單

技術(shù)參數(shù)

■ 測量參數(shù): 反射率/膜厚/色度
■ 反射率范圍: 0-*
■ 波長范圍: 380-1070nm
■ siN膜厚: 25-120nm
■ siO膜厚: 35-169nm
■ 反射率精度: ±0.1%
■ 反射率重復(fù)性: <0.05%
■ 膜厚精度:±1nm
■ 膜厚重復(fù)性: ±0.2nm
■ 色度表達(dá): Lab/xyY/XYZ/Lch
■ 色度精度: x,y 3 σ±0.004/Y3σ±0.5
■ 色度重復(fù)性:x,y 3 σ<0.002/Y3σ<0.2
■ 測量光斑: ~8mm
■ 測量速度: 0.8s/點(diǎn)
■ 硅片尺寸: 156mm×156mm/ 125mm×125mm/ 圓形或更小
■ 樣品臺: 310*160mm
■ 環(huán)境溫度: 15-35℃
■ 濕度: <90%
■ 電源: AC100-240;50/60Hz
■ PC要求: WindoP, 2GB RAM, >100GB HDD