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科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36

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科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36型號:
Nano36

品牌:
科特萊思科

產地:
美國


濺射氣體:
氮氣等

樣品臺尺寸:
300*300

控制方式:
自動

樣品倉尺寸:
400*400

靶材尺寸:
300*300

靶材材質:
鎢靶等

詳細信息 在線詢價

LOAD LOCK Chamber (option)

LOAD LOCK預真空進樣室(可選)

Chamber with front open door

前開門蒸發(fā)腔體

Cryopump and dry pump

冷凝泵和干泵

Multiple thermal evaporation sources   or OLED sources

多個熱阻蒸發(fā)源或OLED低溫蒸發(fā)源

Max. 6” substrate

6”基片

Substrate rotation

基片旋轉

Substrate bias (option)

基片偏壓(可選)

Ion source for substrate cleaning   (option)

離子源清洗基片(可選)

Substrate heating to 1000C (option)

基片加熱1000(可選)

Crystal rate monitor and film   thickness control

晶振沉積速率及膜厚控制

Manual or automatic system control

系統(tǒng)手動或自動控制

For deposition of metal, semiconductor   and insulation materials

可沉積金屬、半導體和絕緣材料

For deposition of multi-layer or alloy   film

可沉積多層膜及合金薄膜

科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36型號:

 Nano36

品牌:

 科特萊思科

產地:

 美國

       
濺射氣體:

 氮氣等

樣品臺尺寸:

 300*300

控制方式:

 自動

樣品倉尺寸:

 400*400

靶材尺寸:

 300*300

靶材材質:

 鎢靶等

    儀器種類:

 進口離子濺射儀

 


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