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簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI射頻離子源RFICP140是一款緊湊的有柵極離子源,非常適用于離子束濺射沉積,離子輔助沉積和離子束刻蝕.在離子束濺射工藝中，射頻離子源RFICP140配有離子光學(xué)元件,可...

簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRi射頻離子源RFICP220高能量柵極離子源,適用于離子濺鍍,離子沉積和離子蝕刻.在離子束濺射工藝中,射頻離子源RFICP220配有離子光學(xué)元件,可以很好的控制離子束去濺射...

簡(jiǎn)介：上海伯東美國(guó)KRi大口徑射頻離子源RFICP380,3層?xùn)艠O設(shè)計(jì),柵極口徑38cm,提供離子動(dòng)能100-1200eV寬束離子束,zui大離子束流1000mA,滿足300mm(12英寸)晶圓應(yīng)用.廣...

簡(jiǎn)介：美國(guó)KRI霍爾離子源eH系列緊湊設(shè)計(jì),高電流低能量寬束型離子源,提供原子等級(jí)的細(xì)微加工能力,霍爾離子源eH可以以納米精度來處理薄膜及表面,多種型號(hào)滿足科研及工業(yè),半導(dǎo)體應(yīng)用.霍爾離子源高電流提高鍍...

簡(jiǎn)介：美國(guó)KRI考夫曼公司新升級(jí)GriddedKDC系列離子源,新的特性包含自對(duì)準(zhǔn)離子光學(xué)和開關(guān)式電源控制.考夫曼離子源KDC系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用.考夫曼離子源KDC提供一套完整的方...

簡(jiǎn)介：上海伯東美國(guó)KRi射頻離子源RFICP系列,無需燈絲提供高能量,低濃度的離子束,通過柵極控制離子束的能量和方向,單次工藝時(shí)間更長(zhǎng)!射頻源RFICP系列提供完整的系列,包含離子源本體,電子供應(yīng)器,中...

簡(jiǎn)介：上海伯東美國(guó)KRI大口徑射頻離子源RFICP380,3層?xùn)艠O設(shè)計(jì),柵極口徑38cm,提供離子動(dòng)能100-1200eV寬束離子束,套裝包含離子源本體和電源控制器.

簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC160是目前考夫曼KDC系列,離子能量的柵極離子源

簡(jiǎn)介：KRI考夫曼離子源KDC100上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI考夫曼離子源KDC100中型規(guī)格柵極離子源,廣泛加裝在薄膜沉積大批量生產(chǎn)設(shè)備中,考夫曼離子源KDC100采用雙陰極燈絲和自對(duì)準(zhǔn)柵極,標(biāo)準(zhǔn)配置...

簡(jiǎn)介：上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口KRI霍爾離子源eH200是霍爾離子源型eH系列中尺寸最小,低成本設(shè)計(jì)離子源.霍爾離子源eH200適用于小型真空腔內(nèi),例如研發(fā)分析,薄膜沉積和離子清洗.霍爾離子源eH200操作...