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簡介：DE400電子束蒸發(fā)儀配置一個電子束蒸發(fā)源，基片架裝于腔體側(cè)面水平轉(zhuǎn)動的軸上，基片可以改變鍍膜角度

簡介：DE400D電子束蒸發(fā)儀配置一個電子束蒸發(fā)源，基片架裝于腔體頂部旋轉(zhuǎn)或腔體側(cè)面水平轉(zhuǎn)動的軸上基片可以改變鍍膜角度

簡介：德儀科技有限公司專業(yè)進(jìn)口美國磁控濺射、電子束蒸發(fā)、熱蒸發(fā)和脈沖激光真空薄膜沉積設(shè)備，以及磁控濺射源/電源、電子束蒸發(fā)源、濺射靶材和蒸發(fā)材料等。十幾年來，憑著的品質(zhì)，*的技術(shù)和周到的技術(shù)服務(wù)，德儀公...

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簡介：概述和應(yīng)用DE500磁控濺射儀主要包括濺射腔體，4個濺射源和一個樣品臺可裝載并濺射zui大六英寸樣品，系統(tǒng)極限真空度10-8托，可用于濺射金屬、半導(dǎo)體及介質(zhì)材料，可用于濺射合金及多層薄膜材料，特別...

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