CMP-4型自動磨拋機(jī)為雙單臺式磨拋機(jī)，跟據(jù)國際標(biāo)準(zhǔn)，采用國際工藝技術(shù)，研發(fā)制造一款單點(diǎn)加力的新型研磨拋光設(shè)備。

CMP-4型自動磨拋機(jī)為雙單臺式磨拋機(jī)，跟據(jù)國際標(biāo)準(zhǔn)，采用國際工藝技術(shù)，研發(fā)制造一款單點(diǎn)加力的新型研磨拋光設(shè)備。(無電子比例閥，手動調(diào)壓）
具備磨拋盤旋轉(zhuǎn)方向可任意選擇、磨拋盤可快速更換；多試樣夾試器，同事具體氣動單點(diǎn)加載功能。本機(jī)采用了微處理器控制系統(tǒng)，使得磨拋盤、磨拋頭的轉(zhuǎn)速實現(xiàn)無級可調(diào)，制樣壓力、時間設(shè)定直觀、便捷。只需更換磨拋盤或者砂紙和織物即可完成磨、拋工序的操作。從而使本機(jī)展現(xiàn)了更加廣泛的應(yīng)用性。具有轉(zhuǎn)動平穩(wěn)、安全可靠、噪音低及采用鑄鋁底座增加了磨拋的剛性等特點(diǎn)。
本機(jī)磨頭電磁鎖自動落鎖功能，安全便捷。帶有水冷卻裝置，可以在研磨時對試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織并隨時將磨粒沖刷排走；再配以玻璃鋼外殼和不銹鋼標(biāo)準(zhǔn)件，在外觀上更加美觀大方，并提高了防腐、防銹性能且易清潔。
適用于對金相試樣的粗磨、精磨、粗拋光至精拋光過程進(jìn)行自動制樣。是企業(yè)、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設(shè)備。

主要技術(shù)指標(biāo)：
磨拋盤直徑：φ250mm（可訂制φ230mm、φ300mm）
磨拋盤轉(zhuǎn)速：50-1000 r/min（無極調(diào)速）以及300 / 600 / 900 r/min（3級定速）
磨拋盤轉(zhuǎn)向：可調(diào)正反轉(zhuǎn)選擇
磨拋頭轉(zhuǎn)速：5-150 r/min（無極調(diào)速）
制備樣數(shù)量：4個
輸入氣源：0.4-0.7Mpa
制 樣 時間：0-3000 S
制樣壓力：單點(diǎn)20-70N   中心0-300N
試 樣 直徑：出廠標(biāo)配φ30mm（可訂制直徑φ22-φ45mm）
輸 入 電壓：單相 AC220V 50Hz
輸 入 功率：1.1KW
外 形 尺寸：550*760*640mm
凈 重：60KG