的第二代全譜光譜儀技術（數(shù)字化技術替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術）、通道不再受限制
引進歐洲技術、國內(nèi)生產(chǎn)CCD全譜真空型光譜儀的制造商
基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費用
可升級為其他基體，無須變動增加硬件
優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性
體積小、重量輕， 移動安裝方便
高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性
節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%
光譜儀光學系統(tǒng):
●光室：結構簡潔，光室潔凈，系統(tǒng)穩(wěn)定，使用壽命長，終身免維護（建議： 恒溫真空型，是世界光譜儀行業(yè)采用的主流技術）
●光室真空泄漏率：真空泵自動啟停功能，24小時真空泵啟動工作不得超過4次，每次不得超過20分鐘
●帕邢-龍格結構，羅蘭圓光學系統(tǒng)
●羅蘭圓直徑：400mm
●有效波長范圍：130 – 800 nm
●探測器：多塊高性能線陣CCD
●光室溫度：自動控制恒溫：34℃±0.3℃
●像素分辨率：10pm
●光柵刻線：3600 l/mm
●一級光譜線色散率：1.2 nm/mm
●外部入射窗口，方便清洗及更換
●的漂移校正功能-得益于自動尋峰功能（精確度達到0.1像素）
●的紫外波段靈敏度，得益于全新改良的真空技術
數(shù)字等離子發(fā)生器:
●全數(shù)字等離子火花光源技術
●高效得益于緊湊的設計和半導體控制技術
●高能預燃技術 (HEPS)
●激發(fā)參數(shù)可通過用戶界面由用戶根據(jù)實際需求自定義進行設置
●頻率100 – 1000Hz
●電流1-400A
優(yōu)化的樣品臺:
●開放式樣品臺設計，滿足大樣品測試要求
● 4mm樣品臺分析間隙
●“噴射電極”技術輕松應對小樣品及復雜幾何形狀樣品
●低氬氣消耗, 待機時:無須待機流量
●通用可調(diào)樣品適配器
●不同基體可方便更換相應火花臺
●優(yōu)化的雜質(zhì)排出系統(tǒng)
●牢固的銅制樣品臺散熱效果
計算機及讀出系統(tǒng):
●國產(chǎn)品牌電腦：聯(lián)想
數(shù)據(jù)輸出:
●數(shù)據(jù)以多種數(shù)據(jù)形式存儲
●可接駁各種標準打印設備
●數(shù)據(jù)可通過互聯(lián)網(wǎng)遠程發(fā)送傳輸
軟件系統(tǒng)
● Windows XP操作系統(tǒng)
●中文光譜儀操作軟件
●可選數(shù)據(jù)維護程序
電源：
● AC220 V /50 Hz
●功率1500 W (主機800W，真空泵600W，電腦100W)
●平均功率1200 W（主機500W，真空泵600W，電腦100W）
●待機功率70 W
● 16 A慢熔保險絲
氬氣要求：
●純氬氣, 99.999%; 氬氣減壓閥（專配減壓閥）;
●氣壓4-5bar,
●銅管傳輸
