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等離子體監(jiān)測控制儀PlasCalc

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PlasCalc等離子體監(jiān)測控制儀,實現(xiàn)200nm-1100nm波段內(nèi)的等離子體測量,通過高級過程控制系統(tǒng)及精密數(shù)據(jù)存取算法,只需3m就可以獲得測量結果

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PlasCalc等離子體監(jiān)測控制儀,實現(xiàn)200nm-1100nm波段內(nèi)的等離子體測量,通過高級過程控制系統(tǒng)及精密數(shù)據(jù)存取算法,只需3m就可以獲得測量結果。

 

特點

  • 光學分辨率1.0nm(FWHM)
  • 光譜范圍 200-1100nm
  • 快速的建模及存儲實驗方法

Recipe編輯器

Recipe編輯器有助于簡單快捷的配置、構建及存儲實驗方法。對一些困難的等離子體工序諸如膜沉積測量、等離子體蝕刻監(jiān)測、表面潔度監(jiān)測、等離子體室控制及異常污染、排放監(jiān)測等,能夠快速簡單的構建模塊過程控制。

 

多種工具用于等離子體診斷

PlasCalc配置的操作軟件,集成的程式編輯器能夠容易實現(xiàn)多種數(shù)學算法功能??蛇x的波長發(fā)生器(可以單獨購買)用于類型確認,而波長編輯器可以用于優(yōu)化信噪比。雙窗口界面用于顯示實際光譜及所有過程控制信息。

 

PlasCalc 配置說明

光譜范圍:

200-1100 nm

光學分辨率:

1.0 nm (FWHM)

D/A 轉換:

14 bit

數(shù)字I/O:

8 x TTL

模擬輸出:

4 x [0-10V]

接口:

USB 1.1

功耗:

12 VDC @ 1.25 A

電源:

90-240 VAC 50/60 Hz

尺寸:

257 mm x 152 mm x 263 mm

重量:

5 kg


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