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Hysitron PI 89掃描電鏡聯(lián)用納米壓痕儀

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無(wú)以倫比的控制和性能,具有固有的位移控制,位移范圍從

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The Hysitron PI 89 掃描電鏡聯(lián)用納米壓痕儀利用掃描電子顯微鏡(SEM、FIB/SEM)的**成像能力,可以在成像的同時(shí)進(jìn)行定量納米力學(xué)測(cè)試。這套全新系統(tǒng)搭載 Bruker *的電容傳感技術(shù),繼承了**市場(chǎng)的**批商業(yè)化原位 SEM 納米力學(xué)平臺(tái)的優(yōu)良功能。該系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)包括納米壓痕、拉伸、微柱壓縮、微球壓縮、懸臂彎曲、斷裂、疲勞、動(dòng)態(tài)測(cè)試和力學(xué)性能成像等功能。


*性能和功能

Hysitron PI 89的緊湊設(shè)計(jì)允許*大的樣品臺(tái)傾斜,以及測(cè)試時(shí)成像的*小工作距離。PI 89為研究者提供了比競(jìng)爭(zhēng)產(chǎn)品更廣闊的適用性和性能:


  • 重新設(shè)計(jì)的結(jié)構(gòu)增加適用性和易用性
  • 1 nm精度的線性編碼器實(shí)現(xiàn)更大范圍下更好的自動(dòng)測(cè)試定位重復(fù)性
  • 更高的框架剛度(~0.9 x 106 N/m)提供測(cè)試過(guò)程更好的穩(wěn)定性
  • 兩種旋轉(zhuǎn)/傾斜模式實(shí)現(xiàn)城鄉(xiāng)、FIB加工、以及各種探測(cè)器的聯(lián)用,包括EDS, CBD, EBSD, and TKD等。


固有位移控制

Hysitron PI 89利用布魯克*的亞納米尺度傳感器和壓電力驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)真正的位移控制和載荷控制測(cè)試:


  • 在固有位移控制模式中,壓電驅(qū)動(dòng)器實(shí)現(xiàn)預(yù)設(shè)位移率的位移控制,同時(shí)力傳感器測(cè)量力。
  • 在真載荷控制模式下,力傳感器直接通過(guò)靜電力加載,同時(shí)通過(guò)三板電容測(cè)量位移。
  • 傳感器的超低電流設(shè)計(jì)使得溫漂*小化,實(shí)現(xiàn)無(wú)比靈敏的載荷和位移測(cè)量。


與SEM成像和其它性能成像同步的原位力學(xué)測(cè)試

Hysitron PI 89獲得的原位力學(xué)測(cè)試結(jié)果與SEM成像同步且并列顯示。這使得用戶能觀察到缺陷、應(yīng)變、熱/電刺激對(duì)于工程材料性能、壽命和耐久性從納米到微米尺度的影響。這種同步實(shí)現(xiàn)更多的分析:


  • 旋轉(zhuǎn)/傾斜樣品臺(tái)實(shí)現(xiàn)EBSD和力學(xué)性能成像聯(lián)用
  • 能在力學(xué)性能測(cè)試前、后直接進(jìn)行FIB加工,而無(wú)需轉(zhuǎn)換腔體




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