氮化硅支持膜氮化硅支持膜：氮化硅支持膜是硅片上生長了一層氮化硅膜，主要用于納米技術(shù)和分子生物研究，它的優(yōu)點是化學(xué)和機(jī)械性能穩(wěn)定耐腐蝕，可以承受高達(dá)1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對顆?；蚣?xì)胞進(jìn)行各種納米技術(shù)實驗。應(yīng)用領(lǐng)域：FIB樣品支撐，細(xì)胞生物學(xué)（附著的細(xì)胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長，然后進(jìn)行分析）、分析膠體，氣溶膠，納米顆粒、自組裝單層、高分子研究、薄膜研究（直接沉積在氮化硅支持膜上）、材料科學(xué)、半導(dǎo)體器件的納米結(jié)構(gòu)的性質(zhì)、半導(dǎo)體：薄膜表征、催化劑研發(fā)。 分類： 支持膜

描述

氮化硅支持膜：氮化硅支持膜是硅片上生長了一層氮化硅膜，主要用于納米技術(shù)和分子生物研究，它的優(yōu)點是化學(xué)和機(jī)械性能穩(wěn)定耐腐蝕，可以承受高達(dá)1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對顆粒或細(xì)胞進(jìn)行各種納米技術(shù)實驗。應(yīng)用領(lǐng)域：FIB樣品支撐，細(xì)胞生物學(xué)（附著的細(xì)胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長，然后進(jìn)行分析）、分析膠體，氣溶膠，納米顆粒、自組裝單層、高分子研究、薄膜研究（直接沉積在氮化硅支持膜上）、材料科學(xué)、半導(dǎo)體器件的納米結(jié)構(gòu)的性質(zhì)、半導(dǎo)體：薄膜表征、催化劑研發(fā)。

膜厚度：彈性，超低應(yīng)力8、15、35或50nm，可產(chǎn)生最小吸收，從而實現(xiàn)清晰的成像；堅固，低應(yīng)力的100nm和200nm，可在多個平臺上更好地處理和使用；窗口尺寸： 0.25 x 0.25mm，0.5 x 0.5mm，0.75 x 0.75mm，1.0 x 1.0mm，0.5 x 1.5mm以及具有3 x 3陣列的9個0.1 x 0.1mm窗口或2個0.1x 1.5毫米窗口的窗口版本。較大的窗口可提供更大的可視區(qū)域，例如，可以實現(xiàn)層析成像應(yīng)用所需的更大的傾斜角度。具有多個窗口的版本允許將多個樣本安裝在單獨的窗口上。表面粗糙度： RMS（Rq）為0.65 +/- 0.06nm，平均粗糙度（Ra）為0.45 +/- 0.02nm。貨號21510-10到21579-10。