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HSEM

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簡介:典型應用透射掃描電子顯微鏡掃描電子顯微鏡半導體分析,加工和修理離子束刻蝕聚焦離子束光刻紋波2ppm

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HEM.jpg

TYPICAL APPLICATIONS
Transmission scanning electron microscopy
Scanning electron microscopy
Semiconductor analysis, milling and repair
Ion beam etching
Focused ion-beam lithography

紋波2ppm

  威思曼高壓電源的HSEM系列是綜合的多輸出高電壓電源,于聚焦離子束。典型的應用包括透射和掃描電子顯微鏡;半導體分析,銑削和修復光盤驅動器頭,離子;束刻蝕和聚焦離子束光刻。模塊化設計方法,允許個別組件可以很容易地配置在一個共同的機架大底盤安裝裝配。接口,邏輯和控制電路是采用表面貼裝技術,盡量減少成本和尺寸。集成加速電源、燈絲電源,吸取極電源,抑制極電源和鏡頭電源。超低輸出紋波,的調(diào)整率、穩(wěn)定性、溫漂、精度。高電壓懸浮、數(shù)字化控制技術。HSEM系列高精度模塊價格有競爭力,是OEM應用的理想選擇。


技術參數(shù):

輸入:DC24V, 47到63Hz

加速極電源
輸出電壓:-200V到-60KV
輸出電流:300μA
紋波:120 mV P-P,從0.1 Hz到1MHZ
線路調(diào)整率:輸入變化+ / -10%為100mV
負載調(diào)整率:± 0.01%,電壓,滿負荷變化
穩(wěn)定度:預熱2小時候后,1.5V/10小時
溫度系數(shù):25 PPM / °C

燈絲電源
輸出電壓:0至5 VDC
輸出電流:0到5 A
紋波:10mA P-P,從0.1 Hz到1MHZ
線路調(diào)整率:+ / -10%變化為5mA
負載調(diào)整率:± 0.1%,電壓,滿負荷變化
穩(wěn)定性:預熱2小時后5mA/10分鐘
溫度系數(shù):200 PPM / °C

抑制極電源
輸出電壓:-10v到 - 2kv
輸出電流:300uA
紋波:20 mV P-P,從0.1 Hz到1MHZ
線路調(diào)整率:輸入+ / -10%變化為100mV
負載調(diào)整率:± 0.01%,電壓,滿負荷變化
穩(wěn)定性:預熱2小時后,500mV/10小時
溫度系數(shù):25 PPM / °C

吸取極電源
輸出電壓:0到-15KV
輸出電流:400μA
紋波:30 mV P-P,從0.1 Hz到1 MHZ,400μA以下
線路調(diào)整率:輸入+ / -10%的變化為100mV
負載調(diào)整率:± 0.01%,電壓,滿負荷變化
穩(wěn)定性:預熱2小時后,500mV/10小時
溫度系數(shù):25 PPM / °C



威思曼高壓電源有限公司是微型高壓電源模塊、高壓電源模塊、X光射線管高壓電源、機箱高壓電源、特殊定制高壓電源、高壓附件等高壓電源產(chǎn)品的制造商,公司設計并制造定制和標準高壓電源產(chǎn)品,功率范圍從100mW到200kW,電壓范圍從60V到500kV。威思曼產(chǎn)品應用領域覆蓋醫(yī)療、工業(yè)以及科研等領域。高壓電源您可以在威思曼一站式采購多個品種規(guī)格。

  威思曼高壓電源有限公司,公司擁有高壓電源研發(fā)團隊,高壓電源研發(fā)軟件和測試軟件。高電壓絕緣技術,零電流諧振技術,使威思曼高壓電源保持高穩(wěn)定性、低紋波、低電磁干擾、體積小,損耗小,效率高,長壽命。威思曼高壓電源價格有競爭力,是OEM應用的理想選擇。



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