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ME-L全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀

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公司名稱 沈陽(yáng)科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司
品牌
型號(hào)
所在地
廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間 2020/10/26 21:17:56
訪問(wèn)次數(shù) 473

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化，降低對(duì)人的依賴。

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介：ME-L是一款科研級(jí)全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀，凝聚了科研團(tuán)隊(duì)在橢偏技術(shù)多年的投入，其采用行業(yè)前沿的創(chuàng)新技術(shù)，包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等?？蓱?yīng)用于半導(dǎo)體薄膜結(jié)構(gòu)，半導(dǎo)體周期性納米結(jié)構(gòu)，新材料，新物理現(xiàn)象研究，平板顯示，光伏太陽(yáng)能，功能性涂料，生物和化學(xué)工程，塊狀材料分析以及各種各向同性/異性薄膜材料膜厚、光學(xué)納米光柵常數(shù)以及一維/二維納米光柵材料結(jié)構(gòu)的表征分析。

雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器(DRC)配置一次測(cè)量全部穆勒矩陣16個(gè)元素；配置自動(dòng)變角器、五維樣件控制平臺(tái)等優(yōu)質(zhì)硬件模塊，軟件交互式界面配合輔助向?qū)皆O(shè)計(jì)，易上手、操作便捷；豐富的數(shù)據(jù)庫(kù)和幾何結(jié)構(gòu)模型庫(kù)，保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力。

產(chǎn)品型號(hào)	ME-L全自動(dòng)高精度穆勒矩陣型橢偏儀
主要特點(diǎn)	1、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源，光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm) 2、可實(shí)現(xiàn)穆勒矩陣數(shù)據(jù)處理，測(cè)量信息量更大，測(cè)量速度快、數(shù)據(jù)更加精準(zhǔn) 3、基于雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器配置，可一次測(cè)量獲得全部穆勒矩陣的16個(gè)元素，相對(duì)傳統(tǒng)光譜橢偏儀可獲取更加豐富全面的測(cè)量信息 4、頤光技術(shù)確保在寬光譜范圍內(nèi)，提供優(yōu)質(zhì)穩(wěn)定的各波段光譜 5、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫(kù)、多種算法模型庫(kù)，涵蓋了目前絕大部分的光電材料 6、集成對(duì)納米光柵的分析，可同時(shí)測(cè)量分析納米結(jié)構(gòu)周期、線寬、線高、側(cè)壁角、粗糙度等幾何形貌信息
技術(shù)參數(shù)	1、應(yīng)用：科研級(jí)/企業(yè)級(jí) 2、基本功能：Psi/Delta、R/T、穆勒矩陣等光譜 3、分析光譜：380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-1650nm) 4、單次測(cè)量時(shí)間：1-8s 5、重復(fù)性測(cè)量精度：0.005nm 6、精度(直通測(cè)量空氣) 橢偏參數(shù):ψ=45±0.05°△=0±0.1° 穆勒矩陣:對(duì)角元素m=1±0.005；非對(duì)角元素m=0±0.005 7、光斑大小：大光斑2-3mm；微光斑200μm
可選配置	波段選擇 V:380-1000nm UV:245-1000nm XN:210-1650nm DN+:193-2500nm 角度選擇自動(dòng):45-90° 手動(dòng):55-75°(5°步進(jìn)),90° 固定:65° 其他選擇 Mapping選擇:100×100mm(供參考,按需定制) 溫控臺(tái):室溫一600C(供參考,按需定制)
可選配件	1	溫控臺(tái)
	2	Mapping擴(kuò)展模塊
	3	真空泵
	4	透射吸附組件