當(dāng)前位置：儀器網(wǎng) > 產(chǎn)品中心 > 行業(yè)專用儀器>其它行業(yè)專用儀器>其它> 超高溫高速退火爐
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日本Advance Riko公司推出的桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，可對(duì)SiC以及其它高熔點(diǎn)材料進(jìn)行退火處理。應(yīng)用領(lǐng)域 ? SiC氧化膜的生成和激活；? 半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)與研究；? 玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等的熱處理；? 作為熱處理爐對(duì)高熔點(diǎn)材料進(jìn)行熱處理；? 陶瓷材料的熱沖擊測(cè)試。
產(chǎn)品特點(diǎn)
? 可以在10s內(nèi)加熱到超高溫1800℃；
? 可以加熱后直接水淬；
? 紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成；
? 緊湊的桌面型設(shè)計(jì)；
? 通過(guò)USB與電腦連接，輸入溫度參數(shù)；
? 在加熱過(guò)程中，在電腦屏幕顯示溫度。
基本參數(shù)
溫度范圍：室溫-1800℃
樣品尺寸：W15mm×L15mm×T1mm
樣品支架：氧化鋁或者高純碳
加熱氛圍：多種
熱電偶：JIS B φ0.3 （W-Re可選）
設(shè)備結(jié)構(gòu)以及樣品支架：
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